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1.
光刻機像質檢測技術(下冊)(簡體書)
作者:
王向朝
出版社:
科學出版社
出版日:
2021/04/20
裝訂:
精裝
本書介紹了光刻機像質檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質檢測技術,介紹了本團隊提出的系列新技術,涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術,包括初級像質參數、波像差偏振像差、動態像差、熱像差等像質檢測技術。
定價:1368 元,
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2.
集成電路與光刻機(簡體書)
作者:
王向朝
出版社:
科學出版社
出版日:
2021/11/23
裝訂:
平裝
集成電路自上世紀50年代誕生至今,一直按照摩爾定律向更高集成度發展。單個芯片上的晶體管數量已經由最初的數十個發展到現在的數十億個。光刻機是集成電路製造的核心裝備,其技術水平決定了集成電路的集成度,關乎摩爾定律的生命力。本書聚焦於集成電路與光刻機這個社會熱點話題,致力於回答"光刻機有哪些功能?在集成電路製造中起什麼作用?","光刻機研發難度高,高在哪兒?"等問題。本書首先介紹了集成電路發展歷程和製造工藝,接下去介紹了光刻機技術的發展、整機系統、曝光光源和關鍵分系統,還介紹了計算光刻,最後簡要介紹了如何提升光刻機的成像質量。本書作者在光刻機領域從事科研工作近二十年,對集成電路與光刻機已經有很深的情結,希望利用這本小書能對大眾普及光刻機相關的知識,嘗試回答大眾關心的有關光刻機的問題,為自己熱衷的事業盡一份力量。
定價:348 元,
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3.
光刻機像質檢測技術(上冊)(簡體書)
作者:
王向朝
出版社:
科學出版社
出版日:
2021/04/09
裝訂:
精裝
本書介紹了光刻機像質檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質檢測技術,介紹了本團隊提出的系列新技術,涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術,包括初級像質參數、波像差偏振像差、動態像差、熱像差等像質檢測技術。本書介紹了這些技術的理論基礎、原理、模型、演算法、模擬與實驗驗證等內容。以光刻機原位與線上像質檢測技術為主,也介紹了投影物鏡的離線像質檢測技術,涵蓋了深紫外幹式、浸液光刻機以及極紫外
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