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半導體先進光刻理論與技術(簡體書)
作者:
(德)安德里亞斯‧愛德曼
出版社:
化學工業出版社
出版日:
2023/08/01
裝訂:
精裝
本書是半導體先進光刻領域的綜合性著作,介紹了當前主流的光學光刻、先進的極紫外光刻以及下一代光刻技術。主要內容涵蓋了光刻理論、工藝、材料、設備、關鍵部件、分辨率增強、建模與仿真、典型物理與化學效應等,包括光刻技術的前沿進展,還總結了極紫外光刻的特點、存在問題與發展方向。書中融入了作者對光刻技術的寶貴理解與認識,是作者多年科研與教學經驗的結晶。 本書適合從事光刻技術研究與應用的科研與工程技術人員閱讀,可作為高等院校、科研院所相關領域的科研人員、教師、研究生的參考書,也可作為微電子、光學工程、微納加工、材料工程等專業本科生的參考教材,還可為芯片製造領域的科技工作者與管理人員提供參考。
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