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半導體幹法刻蝕技術：原子層工藝（簡體書）
作者：
(美)索斯藤‧萊爾
出版社：
機械工業出版社
出版日：
2023/09/25
裝訂：
平裝
本書主要內容有：熱刻蝕、熱各向同性ALE、自由基刻蝕、定向ALE、反應離子刻蝕、離子束刻蝕等，探討了尚未從研究轉向半導體製造的新興刻蝕技術，涵蓋了定向和各向同性ALE的最新研究和進展。本書以特定的刻蝕應用作為所討論機制的示例，例如柵極刻蝕、接觸孔刻蝕或3D NAND通道孔刻蝕，有助於對所有幹法刻蝕技術的原子層次理解。
定價：714 元，
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