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$800以上 (1)

出版日期


2020~2021 (3)

裝訂方式


平裝 (2)
精裝 (1)

作者


韋亞一 (2)
韋亞一、粟雅娟、董立松、張利斌、陳睿、趙利俊 (1)

出版社/品牌


深智數位 (1)
科學出版社 (1)
電子工業出版社 (1)

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3筆商品,1/1頁
台積電為何這麼強:半導體的計算光刻及佈局優化
滿額折

1.台積電為何這麼強:半導體的計算光刻及佈局優化

作者:韋亞一; 粟雅娟; 董立松; 張利斌; 陳睿; 趙利俊  出版社:深智數位  出版日:2021/06/21 裝訂:平裝
護國神山台積電,如何建立超高技術城牆 台灣半導體遙遙領先全球的主要原因 從原理了解晶圓產業的極重要知識 光刻是積體電路製造的核心技術,光刻製程成本已經超出積體電路製造總成本的三分之一。全書內容充滿先進技術積體電路製造的實際情況,涵蓋計算光刻與佈局優化的發展狀態和未來趨勢,系統性地介紹計算光刻與蝕刻的理論,佈局設計與製造製程的關係,以及佈線設計對製造良率的影響,講述和討論佈局設計與製造製程聯合優化的
定價:720 元, 優惠價:9 648
庫存:1
計算光刻與版圖優化(簡體書)
滿額折

2.計算光刻與版圖優化(簡體書)

作者:韋亞一  出版社:電子工業出版社  出版日:2021/01/01 裝訂:平裝
光刻是積體電路製造的核心技術,光刻工藝成本已經超出積體電路製造總成本的三分之一。在積體電路製造的諸多工藝單元中,只有光刻工藝可以在矽片上產生圖形,從而完成器件和電路三維結構的製造。計算光刻被公認為是一種可以進一步提高光刻成像品質和工藝視窗的有效手段。基於光刻成像模型,計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優化,對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正,還可以從工藝難度的角度對設計版圖提出修改意見,最終保證光刻工
定價:474 元, 優惠價:87 412
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超大型集成電路先進光刻理論與應用(簡體書)

3.超大型集成電路先進光刻理論與應用(簡體書)

作者:韋亞一  出版社:科學出版社  出版日:2021/06/25 裝訂:精裝
光刻技術是所有微納器件製造的核心技術。在積體電路製造中,正是由於光刻技術的不斷提高才使得摩爾定律得以繼續。本書覆蓋現代光刻技術的重要方面,包括設備、材料、模擬(計算光刻)和工藝。在設備部分,對業界使用的主流設備進行剖析,介紹其原理結構、使用方法、和工藝參數的設置。在材料部分,介紹了包括光刻膠、抗反射塗層、抗水塗層、和使用旋圖工藝的硬掩膜等材料的分子結構、使用方法,以及必須達到的性能參數。本書按照模
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